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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)

描述:光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)
光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),紫外曝光機(jī)等;ECOPIA為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以

更新時間:2020-11-01
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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)

光刻機(jī)又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),紫外曝光機(jī)等;ECOPIA為的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以的技術(shù)、*的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。

型號:M-150

技術(shù)規(guī)格:

- 掩模尺寸:大7英寸;

- 樣品尺寸:大6英寸;

- 卡盤移動:X,Y,Z,Theta軸手動,楔形補(bǔ)償調(diào)平;

- 紫外光源:6.25" X 6.25";

- 光源功率:350瓦紫外燈;

- 光源均勻性:<+/-3%;

- 光源365nm波長強(qiáng)度:大30毫瓦;

- 顯微鏡:雙顯微鏡系統(tǒng);

- 顯微鏡移動:X,Y,Z軸手動調(diào)節(jié);

- 顯微鏡物鏡空間:50-150mm;

- 標(biāo)配放大倍率:80X-400X;

- 顯示器:20" LCD;

- 曝光時間:0.1-999秒;

- 接觸模式:真空接觸,硬接觸,軟接觸,接近接觸(距離可調(diào));

- 對準(zhǔn)精度:1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode);

- 電源:220V,單相,15安培;

主要特點(diǎn):

- 光源強(qiáng)度可控;

- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);

- 系統(tǒng)控制:手動、半自動和全自動控制;

- 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調(diào)),Proximity接近模式, 投影模式;

- 真空吸盤范圍可調(diào);

-技術(shù):可雙面對準(zhǔn),可雙面光刻,具有IR和CCD模式

- 雙CCD顯微鏡系統(tǒng),大放大1000倍,顯示屏直接調(diào)節(jié),比傳統(tǒng)目鏡對準(zhǔn)更方便快捷,易于操作。

- 特殊的基底卡盤可定做;

- 具有楔形補(bǔ)償功能;

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