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RTP-100快速退火爐

描述:RTP-100快速退火爐
升溫速度:150攝氏度每秒,可以用于大4英寸晶圓或者100mm x 100mm尺寸樣品熱處理。RTP-100可以支持真空或高真空熱處理。

更新時(shí)間:2020-10-31
訪問次數(shù):2207
詳情介紹
品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別進(jìn)口應(yīng)用領(lǐng)域化工,能源,電子,印刷包裝,電氣

RTP-100快速退火爐

技術(shù)規(guī)格:
- 溫度:1200攝氏度;
- 升溫速率:150攝氏度/秒;
- 降溫速度:200攝氏度/分鐘 (1000攝氏度-->400攝氏度);
- 溫控均勻性:≤ 1.5%設(shè)定溫度;
- 加熱方式:紅外鹵素?zé)?,頂部及底部加熱?/span>
- 燈管數(shù)量及功率:18支/20千瓦;
- 腔體冷卻:水冷方式;
- 襯底冷卻:氮?dú)獯祾撸?/span>
- 工藝氣路:MFC控制,多4路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?;
- 主機(jī)尺寸及重量:505mm x 504mm x 420mm (W x D x H),約55Kg;
 RTP-100快速退火爐
儀器特點(diǎn):
- 真空快速退火爐,有低真空型號(10-3 hPa)、高真空型號(10-6 hPa);
- 可在不同氣氛環(huán)境下使用,如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等;
- 控制方式:SIMATIC, SPS人機(jī)界面控制,7英寸觸摸屏;
- 可存儲50個(gè)程序,每個(gè)程序多分為50段控制;
- 全自動(dòng)智能控制,包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空度、循環(huán)水均可自動(dòng)設(shè)置;
- 優(yōu)異的溫控均勻性,的工藝重現(xiàn)性;
- 臺式設(shè)計(jì);
 
應(yīng)用領(lǐng)域:
- 離子注入/接觸退火;
- 快速熱處理(RTP),快速退火(RTA),快速熱氧化(RTO),快速熱氮化(RTN);
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用;
- SiAu, SiAl, SiMo合金化;
- 低介電材料;
- 晶體化,致密化;
- 太陽能電池片鍵合;
等等...

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